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改善薄膜材料: 選擇具有較高本征電阻率的材料制備薄膜,如使用更高純度或添加摻雜劑的方式來提高材料的固有電阻。
優(yōu)化薄膜制備工藝: 通過調(diào)控薄膜的沉積速率、溫度、氣壓等參數(shù),可以控制薄膜的微觀結(jié)構(gòu),從而影響其電學(xué)性能。
增加薄膜厚度: 一般來說,薄膜厚度越厚,表面電阻率越高。適當(dāng)增加薄膜沉積厚度可有效提高表面電阻率。
引入缺陷或不均勻性: 在薄膜制備過程中有目的性地引入一些晶界、缺陷等結(jié)構(gòu)缺陷,可以增加載流子的散射幾率從而提高電阻率。
后續(xù)熱處理: 通過恰當(dāng)?shù)臒崽幚砉に?如退火、氧化等,也可以改變薄膜的微觀結(jié)構(gòu)和化學(xué)組成,進(jìn)而調(diào)控其電學(xué)特性。
表面修飾處理: 在薄膜表面進(jìn)行化學(xué)修飾、覆蓋絕緣層等手段,可以有效抑制表面電子遷移從而提高表面電阻率。
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